北京中天恒遠(yuǎn)的小編龍二給您詳細(xì)的介紹——典型電子級反滲透設(shè)備超純水設(shè)備工藝 幫助廣大用戶朋友更好的了解。
超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)
我公司電子級超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn))、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
典型電子級反滲透設(shè)備超純水設(shè)備工藝
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光樹脂→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光樹脂→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(比較新工藝)
3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(比較新工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(比較新工藝)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
電子級反滲透設(shè)備超純水設(shè)備特點(diǎn)
1、整體化程度高、易于擴(kuò)展、增加膜數(shù)量即可增加處理量。
2、自動(dòng)化程度高,遇故障立即自停,具有自動(dòng)保護(hù)功能。
3、膜組件為復(fù)合膜卷制而成,表現(xiàn)出更高的溶質(zhì)分離率和透過速率。
4、能耗低、水利用率高、運(yùn)行成本低。
5、結(jié)構(gòu)合理,占地面積少。
6、先進(jìn)的膜保護(hù)系統(tǒng),在設(shè)備關(guān)機(jī),淡化水可自動(dòng)將膜面污染物沖洗干凈,延長膜壽命。
7、系統(tǒng)無易損部件,無須大量維修,運(yùn)行長期有效。
8、設(shè)備設(shè)計(jì)有膜清洗系統(tǒng)用阻垢系統(tǒng)。
新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗,LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高,這也對電子級超純水設(shè)備工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
反滲透設(shè)備聯(lián)系方式:
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