集成電路EDI超純水設備清洗污垢的方法,中天恒遠編輯李德馨認真總結(jié)整理了相關(guān)的知識,下面為大家詳細講解一下,希望對您有所啟發(fā)。
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集成電路EDI超純水設備清洗污垢的方法,小編聽取根據(jù)技術(shù)人員的介紹,認真整理總結(jié)了一下,為您詳細介紹
一,倒換電極
可以有效地減輕膜及陰極上的水垢,一般水垢沉積在濃水室陰極表面上,倒換電極后,濃水室、淡水室相應倒換造成水垢的不穩(wěn)定狀態(tài),因而可以減輕結(jié)垢。
二,酸洗
是消除沉淀的有效方法,水垢積到一定程度,就需要進行酸洗,酸洗一般采用循環(huán)酸洗,濃水,淡水和極水室一次酸洗的方法。
三,堿洗
酸洗不能取出有機沉淀物,對于這類污染層可以用堿性食鹽水清洗,使有機物消除,堿洗可以利用酸洗系統(tǒng)進行,一般不另設裝置。
四,定期拆洗
采用上述方法不能回復除鹽率時,應把EDI膜堆拆開清洗,重新組裝一般1-1.5年電滲析需要拆洗一次。
集成電路芯片EDI電除鹽系統(tǒng)采用的是比較流行的EDI膜塊制水工藝,比較終出水電阻率能夠達到18兆歐以上,與此同時,集成電路EDI電除鹽系統(tǒng)的出水中還不會含有任何的細菌以及微生物,所以使用該種電路芯片EDI電除鹽系統(tǒng)作為供水系統(tǒng)的企業(yè)的產(chǎn)品質(zhì)量一定是符合標準的。
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