硅材料清洗用超純水處理設備介紹，通過咨詢相關技術(shù)人員，小編為大家介紹相關內(nèi)容。
硅材料清洗用超純水處理設備
第一，硅材料清洗用超純水處理設備介紹
所謂的硅材料，一般包括單晶硅、多晶硅、太陽能硅片電池以及半導體用的硅材料，這些產(chǎn)品中含有微量的污染就會導致器件失效。清洗的雜質(zhì)主要包括包括有機物和無機物。無論是那種雜質(zhì)都會導致各種缺陷，因此，對于硅材料的清洗和必須使用超純水。硅材料清洗用超純水處理設備—LTLD是一套專門用于硅材料清洗的水處理設備，該設備采用先進的反滲透技術(shù)和EDI技術(shù)，EDI模塊的使用取代了傳統(tǒng)超純水設備混床的使用，制水效果更加明顯。
第二，超純水中雜質(zhì)的污染源介紹
1、水源的影響
由于水是一種溶解能力很強的溶劑，因此天然水中含有各種鹽類和化合物,溶有CO2，還有膠體(包括硅膠和腐殖質(zhì)膠體)，天然水中還存在大量的非溶解性質(zhì)，包括粘土、砂石、細菌、微生物、藻類、浮游生物、熱源等。
2、材料的影響
制備超純水的材料設備的材質(zhì)都是用金屬和塑料制成的,金屬在水中會有痕量溶解，造成金屬離子污染。一些高分子材料，在合成時常常加入各種添加劑、增塑劑、紫外吸光劑、著色劑，也引入大量的金屬、非金屬雜質(zhì)，同時還會帶來有機污染。
第三，硅材料清洗用超純水處理設備介紹
指采用預處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備，用于制取超純水的機器，超純水初是美國科技界為了研制超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其它適當?shù)某R界精細技術(shù)出來的水，這種水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素，超純水無硬度，口感較甜，又常稱為去離子水，可直接飲用，也可煮沸飲用。超純水,是一般工藝很難達到的程度，如水的電阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。超純水設備行業(yè)水質(zhì)標準超純水水質(zhì)分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
第四，硅材料清洗用超純水處理設備介紹
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